离子植入之微粒预防

摘要

本发明提供一种用于减轻在离子植入系统中污染之系统与方法。此系统包括：离子源；电源，其可操作以提供电力至离子源之灯丝与镜电极；工件处理系统；以及控制器。其中此离子源可经由控制器选择性地调整，以提供离子束形成之快速控制。可操作此控制器以选择性快速地控制提供给离子源之电力，因此，至少部份根据此与工件位置有关之信号，在小于大约20微秒中将离子束之功率在植入功率与最小功率间调整。因此，此离子源之控制藉由将此离子束在植入电流之时间数量最小化，而减轻在离子植入系统中之粒子污染。