曝光装置、基板处理方法、以及元件制造方法

摘要

曝光装置EX，具备用以检测形成于基板P上之薄膜Rg，Tc缺陷的检测装置60。当为透过液体LQ使基板P曝光之液浸曝光的情形，可预先侦测薄膜Rg，Tc缺陷所导致之液体流出，抑制元件生产性之降低，防止曝光装置之障碍的产生。