| 发明名称 | 清洁组合物 | ||
| 摘要 | 本发明的清洁组合物的特征在于含有N-羟基甲酰胺。该清洁组合物能够在短时间内在蚀刻工艺后容易地去除基板上的图案化的光致抗蚀剂掩模或抗蚀剂残余物，或在蚀刻工艺和随后抛光工艺后去除保留的抗蚀剂残余物，而不引起布线材料和绝缘膜的腐蚀。因此，确保对高精度的电线电路的精细加工。 | ||
| 申请公布号 | CN1300291C | 申请公布日期 | 2007.02.14 |
| 申请号 | CN03159130.2 | 申请日期 | 2003.09.09 |
| 申请人 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 发明人 | 池本一人 |
| 分类号 | C11D7/32(2006.01) | 主分类号 | C11D7/32(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 刘明海 |
| 主权项 | 1.一种清洁组合物，含有N-羟基甲酰胺。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||