发明名称 |
均匀涂布基片的方法 |
摘要 |
一种利用聚合物溶液涂布基片以产生均匀厚度的膜的方法和装置,其包括将基片安装在封闭式箱体内,以及使控制气体通过入口进入箱体,控制气体可以是含溶剂蒸汽气体。聚合物溶液沉积到箱体内的基片表面上,然后旋转基片。控制气体以及控制气体中悬浮的任何溶剂蒸汽和颗粒杂质通过出口从箱体排出,并通过控制箱体和溶剂的温度而控制溶剂蒸汽浓度,含溶剂蒸汽气体从溶剂中产生。也可以通过混合不同溶剂浓度的气体来控制浓度。还可以控制气体的湿度。 |
申请公布号 |
CN1912744A |
申请公布日期 |
2007.02.14 |
申请号 |
CN200610100516.9 |
申请日期 |
2002.02.21 |
申请人 |
ASML控股公司 |
发明人 |
E·古勒;T·钟;J·刘易冷;E·C·李;R·P·曼达尔;J·C·格拉姆博;T·C·贝特斯;D·R·绍尔;E·R·沃德 |
分类号 |
G03F7/16(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/16(2006.01) |
代理机构 |
北京纪凯知识产权代理有限公司 |
代理人 |
赵蓉民 |
主权项 |
1.一种利用聚合物溶液涂布基片表面的方法,该方法包括:将基片安装在封闭式箱体内;通过将第一含溶剂蒸汽气体与具有不同溶剂蒸汽浓度的第二气体混合,对控制气体的溶剂蒸汽浓度进行控制;使控制气体通过入口进入箱体;将聚合物溶液挤出在箱体内的基片表面上;使基片自旋;以及通过出口从箱体排出控制气体以及控制气体中悬浮的任何溶剂蒸汽和粒子杂质。 |
地址 |
荷兰费得霍恩 |