发明名称 即时侦测制程机台中模组对位偏离之方法及警示系统
摘要 一种侦测制程机台内模组与模组间对位情形之方法。此方法主要包括下列步骤。首先,提供一制程机台,此制程机台包括了第一模组与第二模组。接着,调整第一模组与第二模组间之光学对位至最佳化。再侦测第一模组与第二模组间之相对移动,所发生的相对移动显示上述最佳光学对位已丧失。并且,在上述最佳光学对位丧失时,产生一警示讯号。
申请公布号 TWI273342 申请公布日期 2007.02.11
申请号 TW093102416 申请日期 2004.02.03
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 薛荣浩;石兆立;吴文雄
分类号 G03B41/00(2006.01) 主分类号 G03B41/00(2006.01)
代理机构 代理人 李长铭 台北市中山区南京东路2段53号9楼
主权项 1.一种侦测制程机台内模组与模组间对位情形之 方法,该方法至少包括下列步骤: 提供一制程机台,其中该制程机台包括了第一模组 与第二模组; 调整该第一模组与该第二模组间之光学对位至一 最佳光学对位; 侦测该第一模组与该第二模组间在第一方向上之 相对移动,其中该第一方向系实质上垂直于该第一 模组与该第二模组之装设方向,该相对移动显示上 述最佳光学对位已丧失;且 当上述最佳光学对位丧失时,产生一警示讯号。 2.如申请专利范围第1项之方法,其中上述制程机台 系为一光罩曝光机台,用以生产积体电路元件。 3.如申请专利范围第1项之方法,其中上、述制程机 台更包括一气泡元件与一侦测元件,该气泡元件装 设于该第一模组上,而该侦测元件装设于该第二模 组上,用以进行上述侦测步骤。 4.如申请专利范围第1项之方法,其中上述制程机台 更包括一水银开关,装设于该第一模组或该第二模 组上,用以进行上述侦测步骤。 5.如申请专利范围第1项之方法,其中当该警示讯号 产生时,中断该制程机台操作之步骤。 6.如申请专利范围第1项之方法,其中上述警示讯号 系以发光方式来显示。 7.如申请专利范围第1项之方法,其中上述警示讯号 系以音晌方式来通知。 8.如申请专利范围第1项之方法,其中上述警示讯号 系经由一电子警报器来显示。 9.如申请专利范围第1项之方法,其中该方法更包括 下列步骤: 侦测该第一模组与该第二模组在第二方向上之相 对移动,其中该第二方向系实质上垂直于该第一模 组与该第二模组之装设方向,该相对移动显示上述 最佳光学对位已丧失。 10.如申请专利范围第9项之方法,其中上述第二方 向系垂直于该第一方向。 11.一种侦测制程机台内模组与模组间对位情形之 方法,该方法至少包括下列步骤: 提供一光罩曝光机台,用以生产积体电路元件,该 光罩曝光机台包括了第一模组与第二模组; 调整该第一模组与该第二模组间之光学对位至一 最佳光学对位; 侦测该第一模组与该第二模组在第一方向上与在 第二方向上之相对移动,其中该第一方向与该第二 方向系实质上垂直于该第一模组与该第二模组之 装设方向,该相对移动显示上述最佳光学对位已丧 失;及 当上述最佳光学对位丧失时,产生一警示讯号。 12.如申请专利范围第11项之方法,其中上述侦测步 骤是利用一气泡元件与一侦测元件来执行,该气泡 元件装设于该第一模组上,而该侦测元件装设于该 第二模组上。 13.如申请专利范围第11项之方法,其中上述侦测步 骤是利用一水银开关来执行,该水银开关系装设于 该第一模组或该第二模组上。 14.如申请专利范围第11项之方法,其中上述第一方 向系垂直于该第二方向。 15.如申请专利范围第11项之方法,其中上述警示讯 号系以发光方式来显示。 16.如申请专利范围第11项之方法,其中上述警示讯 号系以音晌方式来通知。 17.如申请专利范围第11项之方法,其中上述警示讯 号系经由一电子警报器来显示。 18.一种具有多个模组之制程机台,具有侦测模组与 模组间对位情形之能力,该制程机台至少包括: 第一模组; 第二模组,系以一最佳光学对位,固定结合于该第 一模组; 开关装置,用以侦测该第一模组与该第二模组在第 一方向上之相对移动,其中该第一方向系实质上垂 直于该第一模组与该第二模组之装设方向,该相对 移动显示上述最佳光学对位已丧失;以及 警示装置,回应于该开关装置,用以产生一警示讯 号。 19.如申请专利范围第18项之制程机台,其中上述制 程机台系为一光罩曝光机台,用以生产积体电路元 件。 20.如申请专利范围第18项之制程机台,其中上述开 关装置包括了一气泡元件与一侦测元件,该气泡元 件装设于该第一模组上,而该侦测元件装设于该第 二模组上。 21.如申请专利范围第18项之制程机台,其中上述开 关装置包括了一水银开关,该水银开关系装设于该 第一模组或该第二模组上。 22.如申请专利范围第18项之制程机台,其,中上述警 示装置系以发光方式来显示。 23.如申请专利范围第18项之制程机台,其中上述警 示装置系以音晌方式来通知。 24.如申请专利范围第18项之制程机台,其中上述警 示装置系为一电子警报器。 25.如申请专利范围第18项之制程机台,其中上述警 示装置能中断该制程机台之操作。 26.如申请专利范围第18项之制程机台,更包括第二 开关装置,用以侦测该第一模组与该第二模组在第 二方向上之相对移动,其中该第二方向系实质上垂 直于该第一模组与该第二模组之装设方向,该相对 移动显示上述最佳光学对位已丧失。 27.如申请专利范围第26项之制程机台,其中上述第 二方向系垂直于该第一方向。 图式简单说明: 第一图显示了具有多个模组之光罩曝光机台的截 面图; 第二图显示了光罩曝光机台中模组与模组间之倾 斜问题; 第三图显示了本发明制程机台之一较佳实施例; 第四图显示了本发明所揭露方法之一较佳实施例; 第五图显示了本发明中使用一水银开关之较佳实 施例; 第六图显示了本发明中使用两组侦测元件之较佳 实施例;及 第七A与B图分别显示了本发明中较佳实施例之警 示电路架构。
地址 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号