发明名称 光电装置及光电装置之制造方法
摘要 一种有关光罩、附有光反射膜之基板、光反射膜之形成方法、光电装置之制造方法及电子机器,可提供为制造干涉斑纹之产生少的附有光反射膜基板的光罩,使用此所成之附有光反射膜基板,光反射膜之制造方法,及具备干涉斑纹之产生少之附有光反射膜基板的电子机器。做为解决手段,将光透过部或光不透过部,将较点范围之数少之数的点做为一单位加以形成,且于该单位内,不规则地加以排列的同时,将该一单位使用含有复数个之光罩,将形成于基材之复数之凸部之高度或凹部之深度实质上相等的同时,令该复数之凸部或凹部之平面形状,成为独立之圆及多角形、或任一方之平面形状,作成将复数之凸部或凹部,向平面方向随机排列之附有光反射膜基板。
申请公布号 TWI273314 申请公布日期 2007.02.11
申请号 TW091113065 申请日期 2002.06.14
申请人 精工爱普生股份有限公司 发明人 大竹俊裕;松尾睦;露木正
分类号 G02F1/1333(2006.01) 主分类号 G02F1/1333(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种光电装置,属于具有复数之点范围的光电装 置,其特征系: 具备: 光电层,和 配置于前述光电层之一方侧、对于前述光电层成 为观察侧之一方的基板,和 配置于前述光电层之另一方侧、形成具有复数之 凸部或复数之凹部之光反射膜的另一方的基板,和 接近前述一方之基板之观察侧之基板面而配置之 保护板,和 配置于前述一方之基板与保护板之间,雾度値为10% ~40%范围内之値的光散乱膜; 前述复数之凸部高度或前述复数之凹部深度,乃实 质上相等; 经由前述复数之凸部或复数之凹部所形成之图案, 乃由较前述点范围之数为少的数目之1画素(R、G、 B3点)的倍数以上之特定数之前述点范围所构成一 单位之图案,被复数个配置而构成的同时,同一之 前述一单位之图案则重覆排列; 前述复数之凸部或前述复数之凹部,乃于前述一单 位之图案内,排列呈不规则者。 2.如申请专利范围第1项之光电装置,其中,经由前 述复数之点范围、和对应于此等而设置之各色为 不同的复数着色层,来形成1画素,于前述一单位,至 少对应前述1画素者。 3.一种液晶显示装置之制造方法,属于具备液晶层, 和形成配置于前述液晶层之一方侧具有凸部或凹 部之光反射膜之一方的基板,和配置于前述液晶层 之另一方侧、对于前述液晶层而言成为观察侧之 另一方的基板,和接近前述另一方之基板之观察侧 的基板面而配置之保护板,和配置于前述另一方之 基板与前述保护板间之雾度値为10%~40%范围内之値 的光散乱膜之同时;具有复数之点范围之液晶显示 装置之制造方法,其特征系: 包含: 于前述一方之基板、形成感光性树脂的工程,和 使用光罩、曝光前述感光性树脂、之后加以显像 、于前述感光性树脂形成凹凸之工程,和 于前述凹凸上,形成前述光反射膜之工程; 前述光罩,乃为于前述一方之基板形成凸部或凹部 之图案的光罩,具备可透过入射光之光透过部,和 不透过光线之光不透过部; 经由前述光透过部或光不透过部形成之图案,乃做 为由较前述点范围之数目为少之数目的1画素(R、G 、B3点)的倍数以上之特定数之前述点范围所构成 一单位图案而形成的同时,于该一单位图案内,前 述光透过部或光不透过部则排列呈不规则,且令同 一前述单位图案,重覆复数个而排列构成者。 4.如申请专利范围第3项之液晶显示装置之制造方 法,其中,前述光罩乃令前述光透过部或光不透过 部之口径呈3~15m之范围内之値。 5.如申请专利范围第3项之液晶显示装置之制造方 法,其中,前述光罩乃具备各口径不同之复数之前 述光透过部或各口径不同之复数之光不透过部。 6.如申请专利范围第3项之液晶显示装置之制造方 法,其中,前述液晶显示装置之复数之点范围乃形 成画素之复数之红绿蓝(RGB)点范围者。 图式简单说明: 【图1】为说明本发明之光罩供给之平面图 【图2】为说明将1画素(RGB:3点)做为一单位,将光透 过部或光不透过部向平面方向随机排列之光罩而 供给之平面图。 【图3】为说明将2画素(RGB:6点)做为一单位,将光透 过部或光不透过部向平面方向随机排列之光罩而 供给之平面图。 【图4】为说明将4画素(RGB:12点)做为一单位,将光 透过部或光不透过部向平面方向随机排列之光罩 而供给之平面图。 【图5】为说明光透过部或光不透过部之口径不同 的光罩而供给之平面图。 【图6】为说明光透过部或光不透过部有镜面对称 之光罩而供给之平面图。 【图7】包含第1之基板及第2之基板之附有光反射 膜基板之截面图。 【图8】非对称之实质上泪型凸部所成附有光反射 膜基板之平面图及截面图。 【图9】显示可辨视之光量,和辨视角度之关系图 。 【图10】具有开口部之附有光反射膜基板之截面 图。 【图11】附有光反射膜基板之制造工程图。 【图12】附有光反射膜基板之制造工程之流程图 。 【图13】为说明电气连接于TFT元件附有光反射膜 基板而供给之截面图。 【图14】显示被动矩阵方式之液晶显示装置之构 成的截面图。 【图15】显示其他液晶显示装置之构成的截面图 。 【图16】显示电子机器之一例的个人电脑之构成 的斜视图。 【图17】显示电子机器之一例之携带电话机之构 成的斜视图。 【图18】实质上圆锥型之凹部所成附有光反射膜 基板之形面图及截面图。 【图19】非对称实质性之泪型凹部所成附有光反 射膜基板之平面图及截面图。 【图20】非对称实质性之金字塔型凹部所成附有 光反射膜基板之平面图及截面图。 【图21】以实质上水平截面为曲率半径小之抛物 线,垂直截面较其曲率半径大之抛物线凹部所成附 有光反射膜基板之平面图及截面图。 【图22】实质上水平截面为矩形,向垂直方向角锥 状之凹部所成附有光反射膜基板的平面图及截面 图。 【图23】TFD方式之液晶显示装置之分解图。 【图24】TFD方式之液晶显示装置之部分截面图。 【图25】TFD方式之液晶显示装置之部分斜视图。 【图26】显示以往之液晶显示装置之构成之截面 图。 【图27】显示以往之液晶显示装置之其他构成之 截面图。 【图28】以往之液晶显示装置之制造工程图。
地址 日本
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