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1.一种可用于聚合制造聚丁二烯之触媒系统,其基 于至少: -一共轭二烯单体, -一或多种稀土金属之有机磷酸盐,该盐是在至少 一惰性饱和且脂族或环脂族烃溶剂的悬浮液中, -由式AlR3或HAlR2组成之烷基化剂,"烷基化剂:稀土盐 "莫耳比例大于5,及 -属于卤化烷基铝族但排除倍半卤化烷基铝的卤素 给予体, 其特征在于该触媒系统包括之稀土金属的浓度等 于或大于0.005莫耳/升。 2.如申请专利范围第1项之触媒系统,其包括浓度在 0.010莫耳/升至0.060莫耳/升范围中之稀土金属。 3.如申请专利范围第1或2项之触媒系统,其中该盐 是参[双(2一乙基己基)磷酸]稀土盐。 4.如申请专利范围第1或2项之触媒系统,其中该盐 是参[双(2-乙基己基)磷酸]钕。 5.如申请专利范围第1或2项之触媒系统,其中该"烷 基化剂:稀土盐"莫耳比例严格地介于5至10之间。 6.如申请专利范围第1或2项之触媒系统,其中"卤素 给予体:盐"之莫耳比例具有2至3.5之値。 7.如申请专利范围第1或2项之触媒系统,其中"共轭 二烯单体:盐"莫耳比例具有15至70之値。 8.如申请专利范围第1或2项之触媒系统,其中该共 轭二烯单体是丁二烯。 9.如申请专利范围第1或2项之触媒系统,其中该卤 素给予体是单卤化烷基铝。 10.如申请专利范围第9项之触媒系统,其中该卤素 给予体是氯化二乙基铝。 11.如申请专利范围第10项之触媒系统,其中该烷基 化剂是氢化二异丁基铝。 12.一种制造如申请专利范围第1或2项之触媒系统 的方法,其特征为包括以下步骤: -在第一选择性的步骤中,产制该稀土盐在该溶剂 中之悬浮液, -在第二步骤中,在第一步骤中所得之悬浮液中添 加共轭二烯单体,或在没有实施第一步骤之情况中 ,除了该共轭二烯单体之外尚添加该溶剂至盐中, -在第三步骤中,该烷基化剂添加至在该第二步骤 结束时所得之悬浮液中以得烷基化之盐,且 -在第四步骤中,该卤素给予体添加至该烷基化之 盐中。 13.一种聚丁二烯之制造方法,其特征为包括在惰性 烃溶剂中在丁二烯之存在下反应如申请专利范围 第1或2项之触媒系统,以致所得之聚丁二烯被尺寸 排除层析术所测量时具有少于2.1之多分散指数Ip 。 14.如申请专利范围第13项之聚丁二烯之制造方法, 其中该聚丁二烯进一步在100℃下,依标准ASTM D 1646 测量具有40至47之孟纳粘度ML(1+4)。 |
