| 发明名称 | 光罩/掩模系统的自适应实时控制 | ||
| 摘要 | 本发明给出了一种包括多变量控制器(260)的自适应实时热处理系统。通常，方法(1600)包括创建热处理系统的动态模型(1630)；将光罩/掩模曲率并入到动态模型中；将扩散－放大模型耦合到动态热模型中；创建多变量控制器；将标称设置点参数化到智能设置点的向量中(1650)；创建工艺敏感性矩阵；利用高效优化方法和工艺数据创建智能设置点；并建立工艺方案，该工艺方案在运行期间选择了适当的模型和设置点。 | ||
| 申请公布号 | CN1910517A | 申请公布日期 | 2007.02.07 |
| 申请号 | CN200580003080.5 | 申请日期 | 2005.01.19 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 萨恩吉夫·考沙尔;帕迪普·帕恩戴伊;杉岛贤次 |
| 分类号 | G03F1/00(2006.01) | 主分类号 | G03F1/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 王怡 |
| 主权项 | 1.一种操作热处理系统的方法，包括：将光罩/掩模放置在包括多个分段的加热装置上；创建所述系统的动态热模型；利用所述系统的动态热模型建立多个智能设置点，其中对于所述加热装置的每个分段创建至少一个智能设置点；以及利用所述至少一个智能设置点控制每个分段的实际温度，从而在所述光罩/掩模上建立受控的温度分布特性。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||