发明名称 |
磁盘用润滑剂及其制造方法、磁盘及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种润滑剂及磁盘,该润滑剂即使在10nm以下的极低的上浮量下,也可以防止飞毛静摩擦故障和腐蚀故障,即使如在5400rpm以上的高速转动中,也可以抑制迁移,形成附着性高的润滑层,特别用于形成对加载卸载方式用合适的润滑层。本发明通过使至少含有全氟聚醚的润滑剂进行脱气处理后进行精制处理,或使至少含有全氟聚醚的液态的润滑剂气化,使气化后的全氟聚醚分子在其平均自由行程以内的距离液化,精制处理所述润滑剂。通过使得到的润滑剂在直到在基板上形成碳系保护层的磁盘的保护层上成膜;形成润滑层,得到磁盘。磁盘润滑剂含有全氟聚醚,其分子量分散度在1.3以下。 |
申请公布号 |
CN1910267A |
申请公布日期 |
2007.02.07 |
申请号 |
CN200580002462.6 |
申请日期 |
2005.01.12 |
申请人 |
HOYA株式会社 |
发明人 |
下川贡一 |
分类号 |
C10M107/38(2006.01);C10M177/00(2006.01);G11B5/725(2006.01);G11B5/84(2006.01);C10N20/04(2006.01);C10N30/06(2006.01);C10N40/18(2006.01);C10N50/02(2006.01);C10N70/00(2006.01) |
主分类号 |
C10M107/38(2006.01) |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
陈昕 |
主权项 |
1、磁盘用润滑剂的制造方法,该方法是用于形成设在磁盘表面的润滑层的润滑剂的,其特征在于,将至少含有全氟聚醚的润滑剂进行脱气处理后进行精制处理。 |
地址 |
日本东京都 |