| 主权项 |
1.一种蛋白质奈米阵列,其包含: a)奈米阵列基板; b)在该奈米阵列基板上的复数个点,该点在该基板 上包含至少一个图案化化合物,及在该图案化化合 物上之至少一种蛋白质, 其进一步包含在该基板上环绕该点之蛋白质钝化 化合物。 2.如申请专利范围第1项之蛋白质奈米阵列,其中该 图案化化合物系由浸笔式(dip-pen)奈米微影印刷置 于该基板上。 3.如申请专利范围第1项之蛋白质奈米阵列,其中该 复数个点为点的晶格。 4.一种蛋白质奈米阵列,其包含: a)奈米阵列基板, b)在该基板上的复数条线,该线在该基板上包含至 少一个图案化化合物,及在该图案化化合物上之至 少一种蛋白质, 其进一步包含在该基板上该线之间的蛋白质钝化 化合物。 5.如申请专利范围第4项之蛋白质奈米阵列,其中该 图案化化合物系由浸笔式奈米微影印刷置于该基 板上。 6.如申请专利范围第4项之蛋白质奈米阵列,其中该 复数条线系为垂直或平行线之格栅。 7.一种蛋白质奈米阵列,其包含: a)奈米阵列基板, b)在该基板上复数个图案,该图案在该基板上包含 至少一个图案化化合物,及至少一种吸附到每个图 案中之蛋白质, 其进一步包含在该基板上该图案之间的蛋白质钝 化化合物。 8.如申请专利范围第1项之蛋白质奈米阵列,其中该 蛋白质钝化化合物为界面活性剂。 9.如申请专利范围第4项之蛋白质奈米阵列,其中该 蛋白质钝化化合物为界面活性剂。 10.如申请专利范围第7项之蛋白质奈米阵列,其中 该蛋白质钝化化合物为界面活性剂。 11.如申请专利范围第1项之蛋白质奈米阵列,其中 该图案化化合物系经化学吸附或共价键结到该基 板。 12.如申请专利范围第4项之蛋白质奈米阵列,其中 该图案化化合物系经化学吸附或共价键结到该基 板。 13.如申请专利范围第7项之蛋白质奈米阵列,其中 该图案化化合物系经化学吸附或共价键结到该基 板。 14.一种制作蛋白质之奈米级阵列之方法,其包含: 由浸笔式奈米微影印刷沉积图案化化合物在表面 上; 利用钝化化合物来钝化该表面之未沉积的区域, 暴露具有该图案化化合物之表面及该图案化化合 物到包含至少一蛋白质之溶液中; 由该蛋白质溶液移除该表面,其中该表面包含蛋白 质的奈米级阵列。 15.如申请专利范围第14项之制作蛋白质之奈米级 阵列之方法,其中该钝化化合物为界面活性剂。 16.如申请专利范围第14项之制作蛋白质之奈米级 阵列之方法,其中该图案化化合物系经化学吸附或 共价键结到该基板。 图式简单说明: 图1:所示为使用浸笔式奈米微影印刷来产生用于 后续钝化及缩氨酸及蛋白质吸附步骤之结构,以制 作缩氨酸及蛋白质奈米阵列。 图2:所示为Lysozyme奈米阵列之影像及高度轮廓。 (A)沉积在一Au基板上的MHA点的8 m乘8 m平方晶 格之侧向力影像。该阵列系以在相对湿度42%之下 的裸尖端来成像(扫描速率=4Hz)。 (B)在Lysozyme吸附之后的该奈米阵列之地形影像(接 触模式)及高度轮廓。使用0.2 nN之尖端-基板接触 力来避免使用该尖端而损坏该蛋白质图案。 (C)一六角形Lysozyme奈米阵列之分接模式影像(矽悬 臂梁,弹簧常数=-40 N/m)及高度轮廓。该影像系以0.5 Hz扫描率取得,以得到高解析度。 (D)一Lysozyme奈米阵列之三维地形影像,包含具有刻 意变化的特征尺寸之线格栅及点。成像化系由(B) 中所述的接触模式中完成。 图3:(A)之AFM分接模式影像及IgG之高度轮廓,其组合 到一所产生的MHA点阵列上。该扫描速率为0.5 Hz。 (B)相同面积的三维地形影像系显示在(A)。 (C)抗IgG之AFM分接模式影像及高度轮廓,其生化地附 着到该IgG奈米阵列上,其显示在(A)及(B)中。该高度 轮廓显示出在反应之后的高度为160.9nm(n=10)。写 入及成像化条件与(A)中相同。 (D)显示在C中的该区域的三维地形影像。 图4所示为一六角形Lysozyme奈米阵列之分接模式影 像及高度轮廓。 图5所示为(A)一IgG奈米阵列之地形影像(接触模式), (B)显示在32(A)中之相同面积之三维地形影像。 |
