| 主权项 |
1.一种包含分别为上及下显示装置之两叠置的显 示总成,上显示装置包括一个由被安置光阀上之显 示胞元所形成的双重结构,该双重结构系被安置使 第一状态中之该胞元及该光阀均为透明以便看见 下显示装置,所以胞元显示资料项且光阀为不透明 ,且至少部份罩住下显示装置于第二状态中,控制 装置供应控制电压使显示胞元及光阀从第一状态 转换至第二状态且反之亦然,其中显示胞元系为转 换状态中的反射类型,且光阀系由转换状态中具有 吸收性状态的胞元所组成。 2.如申请专利范围第1项的显示总成,其中胞元及光 阀系位于缺乏被该控制装置供应之任何电压的第 一状态。 3.如申请专利范围第1项的显示总成,其中该显示胞 元系从扭曲向列(TN)、客主、电子控制双折射(ECB) 、结构、铁电、电路、电解、电毛细孔管类型的 胞元中被挑选。 4.如申请专利范围第3项的显示总成,其中显示胞元 系由扭曲向列胞元形成,吸收性起偏器被放置胞元 正面,且反射起偏器被放置胞元后面。 5.如申请专利范围第1项的显示总成,其中光阀系由 扭曲向列液晶胞元形成,吸收性起偏器被放置胞元 后面。 6.如申请专利范围第1项的显示总成,其中光阀系由 扭曲向列型胞元形成,起偏器被放置胞元正面,四 分之一波板及膜片被接续放置胞元后面。 7.如申请专利范围第1项的显示总成,其中光阀系由 电解胞元形成。 8.如申请专利范围第1项的显示总成,其中光阀系由 电铬胞元形成。 9.如申请专利范围第1项的显示总成,其中光阀系由 汞电毛细孔管胞元形成。 10.如申请专利范围第1项的显示总成,其中光阀系 位于缺乏被该控制装置供应之任何电压的第一状 态,且其中光阀系由可转换膜片形成。 11.如申请专利范围第1项的显示总成,其中下显示 装置系从包括类比装置、数位装置或其组合及装 饰元件的组成中被挑选。 12.一种包括被晶体及背覆盖包覆之框的时计,其中 被时间相关资讯之显示装置有关之发条装置机心 所覆盖,其中其包括如申请专利范围第1项的显示 总成,该下显示装置系由该时间相关资讯之显示装 置所形成,且该上显示装置延伸于晶体及该时间相 关资讯约显示装置之间。 13.如申请专利范围第12项的时计,其中该时间相关 资讯的显示装置包括一个刻度盘及移动于刻度盘 上的时针及分针。 14.如申请专利范围第12项的时计,其中该晶体系由 上显示装置形成。 图式简单说明: -图1,其已被引用,系为根据先前技术之被配适显示 总成的手表横断面,该总成被转换为第一状态使下 显示装置得以呈现; -图2A及2B,其已被引用,系为图1之显示总成的略图, 其分别被转换为其中其为透明使被下显示装置显 示的资料可见的第一状态,及其中光阀为不透明且 反射以完全罩住下显示装置,而上显示装置之显示 胞元可显示预期资料的第二状态。 -图3A及3B,系为根据本发明之显示总成的略图,其分 别被转换为其中其为透明使被下显示装置显示的 资料可见的第一状态,及其中光阀具吸收性以完全 罩住下显示装置,而上显示装置之显示胞元的转换 片断可反射显示预期资料的第二状态。 |
