| 主权项 |
1.一种经皮治疗贴片,其中在经皮治疗贴片的储存 期间,存在此贴片内并可被氢过氧化物氧化之至少 一活性物质的氧化降解产物的形成降低,与该活性 物质接触之配方成分的过氧化数(PON)之总和,决定 于它们在经皮治疗贴片中之比率,不超过20,以及过 氧化数之总和系藉由使用无机亚硫酸盐或亚硫酸 氢盐水溶液而加以抑制。 2.如申请专利范围第1项之经皮治疗贴片,其中过氧 化数之总和不超过10,以不超过5为佳。 3.如申请专利范围第1项之经皮治疗贴片,其中活性 物质具有至少一种二级或三级胺基,双键,烯丙基 位置之CH键,苯甲基位置之C-H键,三级CH及/或硫化物 基团。 4.如申请专利范围第1项至第3项中任一项之经皮治 疗贴片,其系一种单层或多层基质系统,其中基质 包括活性物质,包括烃树脂,聚乙烯咯烷酮或乙 烯咯烷酮与丙烯酸,丙烯酸衍生物,乙烯及/或醋 酸乙烯酯之共聚物。 5.如申请专利范围第1项至第3项中任一项之经皮治 疗贴片,其包括一层或以上之含有松脂衍生物及/ 或多烯系之增粘剂树脂之自粘活性物层。 6.如申请专利范围第1项至第3项中任一项之经皮治 疗贴片,其中配方成分包括渗透促进剂及/或结晶 抑制剂。 7.如申请专利范围第1项至第3项中任一项之经皮治 疗贴片,其系一种集库型系统,其中可氧化活性物 质系溶解于具有至少一个醚氧、三级碳原子及/或 在烯丙基位置之CH基之溶剂或溶剂混合物中。 8.如申请专利范围第1项至第3项中任一项之经皮治 疗贴片,其中所用渗透促进剂包括烯或烯衍生 物,不饱和脂肪酸或其衍生物,脂肪醇或其衍生物 或二乙二醇(diethylene glycol)或其衍生物。 9.一种制备如申请专利范围第1项之经皮治疗贴片 之方法,其包括 a)依该经皮治疗贴片配方所定比率选取配方成分, 其过氧化数总和不超过20,或 b)以无机亚硫酸盐或亚硫酸氢盐水溶液处理含氢 过氧化物配方成分之低级烷醇溶液,若欲则分离沉 淀之反应产物,及以a)之配方成分或以依b)处理之 配方成分,以及至少一种活性物质利用以往方法制 备经皮治疗贴片。 10.如申请专利范围第9项之方法,其中固态或液态 配方成分系于低级烷醇溶液中以亚硫酸钠或亚硫 酸氢钠水溶液处理。 11.如申请专利范围第9项或第10项之方法,其中该配 方成分系于甲醇或乙醇溶液中处理。 |
