发明名称 Verfahren zur Unterstützung der Maskenherstellung, Verfahren zur Bereitstellung von Maskenrohlingen und Verfahren zur Handhabung von Maskenrohlingen
摘要 <p>A mask blank is provided by forming a plurality of films, including at least a thin film to be a transfer pattern, on a board. At the time of patterning a resist film of the mask blank according to pattern data, film information to check with a pattern is obtained for each of a plurality of the films.</p>
申请公布号 DE112005000548(T5) 申请公布日期 2007.02.01
申请号 DE20051100548 申请日期 2005.03.07
申请人 HOYA CORP. 发明人 ISHIDA, HIROYUKI;AIYAMA, TAMIYA;MARUYAMA, KOICHI
分类号 G03F1/08;H01L21/027 主分类号 G03F1/08
代理机构 代理人
主权项
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