| 发明名称 | 化学氧化物去除系统和方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种化学氧化物去除(COR)处理系统，其中所述COR系统包括第一处理室和第二处理室。所述第一处理室包括化学处理室，提供具有保护阻挡层的温度受控室。所述第二处理室包括热处理室，提供具有保护阻挡层的温度受控室。 | ||
| 申请公布号 | CN1898772A | 申请公布日期 | 2007.01.17 |
| 申请号 | CN200480038035.9 | 申请日期 | 2004.11.09 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 亚瑟·H·小拉弗拉弥;托马斯·哈梅林;杰伊·华莱士 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 李剑 |
| 主权项 | 1.用于处理衬底的减少维护处理系统，包括：用于使所述衬底上的暴露表面层发生化学变化的化学处理系统，所述化学处理系统包括温度受控化学处理室，所述化学处理室具有在至少部分内表面上形成的保护阻挡层；用于对所述衬底上的已发生化学变化的表面层进行热处理的热处理系统，所述热处理系统包括温度受控热处理室，所述热处理室具有在至少部分内表面上形成的保护阻挡层；和连接至所述热处理系统和所述化学处理系统的热绝缘组件。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||