| 摘要 |
本发明一般来说提供一种在物理气相沉积(PVD)反应室中处理基材表面之设备及方法，该反应室具有增大之阳极表面以改善大面积基材之沉积均匀度。一般来说，本发明之态样可用在平面显示器制程、半导体制程、太阳能电池制程、或任何其他基材制程上。在一态样中，该制程反应室含有一或多个阳极组件，其系用来增加阳极表面积并将其更平均地分布在该制程反应室之制程区域中。在一态样中，该阳极组件含有一导电构件及导电构件支撑。在一态样中，该制程反应室适于在不须从该制程反应室移出任何主要组件下容许该导电构件从该制程反应室移出。 |
