具有可施加至靶材之射频电源的物理气相沉积电浆反应器

摘要

一种物理气相沈积反应器包含一真空腔体、一耦接至腔体上的真空帮浦、一耦接至腔体之制程气体入口以及一耦接至制程气体入口之制程气体源；其中该真空腔体包含一侧壁、一顶板与接近腔体底面的一晶圆支持基座。金属溅镀靶材系位于顶板上且高压直流源系耦接至溅镀靶材上。射频电浆源功率产生器系耦接至金属溅镀靶材上，且具有适合激发运动电子之频率。较佳地，晶圆支持基座包含静电夹盘，以及一射频电浆偏压功率产生器系耦接至晶圆支持基座上，其具有适于耦合能源至电浆离子的频率。较佳地，具有直径超过约0.5英寸之固体金属射频馈入杆(feed rod)与金属靶材啮合，此射频馈入杆轴向延伸于靶材上方且穿过顶板并耦接至射频电浆源功率产生器上。