曝光方法、曝光装置、及元件制造方法

摘要

曝光方法，系具有以下步骤：第1步骤，对光学系统PL内之曝光用光EL之既定光路空间填满液体，或是将填满之液体LQ予以更换；第2步骤，透过在光路空间所填满或更换之液体LQ将既定数量之基板P依序曝光；及第3步骤，于第2步骤结束后，依据自第1步骤起之经过时间，判断是否将在光路空间所填满之液体LQ予以更换。藉此，可将光路空间所填满之液体维持于期望状态，而能良好地进行曝光处理及测量处理。