| 主权项 |
1.一种喷头维护装置,其包括一清洗模组,该清洗模 组包括一清洗基座及一与其相连之第一驱动部,该 清洗基座包括复数喷液孔,该第一驱动部用以控制 清洗基座转动之动作。 2.如申请专利范围第1项所述之喷头维护装置,其中 ,所述清洗基座进一步包括:一包括复数环形挡壁 之第一凹槽,该复数环形挡壁分别围成一固液凹槽 ,所述复数喷液孔设置于该固液凹槽底部,所述复 数环形挡壁上分别具有出液口;至少一出液孔设置 于该第一凹槽底部。 3.如申请专利范围第2项所述之喷头维护装置,其中 ,所述固液凹槽下方具有一中空管道与相对应之喷 液孔相通。 4.如申请专利范围第1项所述之喷头维护装置,其中 ,所述第一驱动部包括:一第一驱动装置;一与该第 一驱动装置相连之第一转轴;一第一底座;一与该 第一底座相连之第一底座转轴,该第一转轴通过第 一传动带带动该第一底座转轴转动;一相对第一底 座转轴设置之第一缓冲座,该第一缓冲座与清洗基 座弹性连接,该第一底座转轴带动第一缓冲座转动 。 5.如申请专利范围第1项所述之喷头维护装置,其进 一步包括一擦拭模组,该擦拭模组包括一承载板及 一与其相连之第二驱动部,该承载板上具有一第二 凹槽,该第二驱动部用以控制擦拭布于该第二凹槽 上方移动之动作。 6.如申请专利范围第5项所述之喷头维护装置,其中 ,所述第二驱动部包括一第二驱动装置;一与该第 二驱动装置相连之第二转轴;一装设有擦拭布之从 动转轴,擦拭布之一端与第二转轴相连。 7.如申请专利范围第6项所述之喷头维护装置,其进 一步包括一编码器,该编码器与第二转轴相配合, 该编码器用来测得擦拭布移动之距离。 8.如申请专利范围第6项所述之喷头维护装置,其进 一步包括复数与第二转轴相配合之从动转轴,第二 转轴通过擦拭布带动从动转轴转动。 9.如申请专利范围第6项所述之喷头维护装置,其进 一步包括一光传感器,其设置于擦拭布之下方。 10.如申请专利范围第1项所述之喷头维护装置,其 进一步包括一封罩模组,该封罩模组包括一封罩基 座及一与其相连之第三驱动部,该封罩基座包括设 置于封罩基座上之第三凹槽、复数密封孔及至少 一单孔,该单孔设置于该第三凹槽底部,该单孔上 设置有单孔密封圈,密封孔上设置有密封孔圈,该 第三驱动部用以控制封罩基座转动之动作。 11.如申请专利范围第10项所述之喷头维护装置,其 中,所述复数密封孔平行设置于该封罩基座上,所 述第三凹槽与密封孔相间设置。 12.如申请专利范围第10项所述之喷头维护装置,其 中,所述第三驱动部包括:一第三驱动装置;一与该 第三驱动装置相连之第三转轴;一第二底座;一与 该第二底座相连之第二底座转轴,该第三转轴通过 第二传动带带动该第二底座转轴转动;一相对第二 底座转轴设置之第二缓冲座,该第二缓冲座与封罩 基座弹性连接,该第二底座转轴带动第二缓冲座转 动。 13.如申请专利范围第10项所述之喷头维护装置,其 进一步包括复数排液孔,其设置于该第三凹槽底部 。 图式简单说明: 第一图系本发明喷头维护装置第一实施例之清洗 模组之立体示意图。 第二图系第一图中所示清洗模组之清洗基座之立 体示意图。 第三图系第二图中清洗基座沿III-III线之立体剖视 图。 第四图系本发明喷头维护装置第一实施例之擦拭 模组之立体示意图。 第五图系本发明喷头维护装置第一实施例之封罩 模组之立体示意图。 第六图系第五图中所示封罩模组之封罩基座之立 体示意图。 第七图系本发明喷头维护装置第二实施例之立体 示意图。 第八图系本发明喷头维护装置第三实施例之立体 示意图。 |
