| 主权项 |
1.一种微透镜之制造方法,其特征在于包括: 在基板上形成具有透光性之无机膜之步骤; 在与透镜形成位置对应的上述无机膜上的位置形 成抗蚀剂膜之步骤; 蚀刻上述无机膜的未形成有上述抗蚀剂膜的部分 之步骤; 去除残存的上述抗蚀剂膜之步骤;及 对经去除上述抗蚀剂膜且经由上述蚀刻而形成图 案的无机膜照射惰性气体离子之步骤。 2.如申请专利范围第1项之微透镜之制造方法,其中 , 形成上述无机膜之步骤,系包括在上述基板上沈积 氮化矽膜或氧化矽膜之步骤。 3.如申请专利范围第1项之微透镜之制造方法,其中 , 上述惰性气体离子包含氩离子。 4.如申请专利范围第1至3项中任一项之微透镜之制 造方法,其中,还包括:对经照射上述惰性气体离子 且经由上述蚀刻而形成图案的无机膜,沈积具有透 光性的无机膜之步骤。 5.一种固态摄像元件之制造方法,其特征在于包括: 在形成有多个光电二极体的基板上形成具有透光 性的无机膜之步骤; 在与各光电二极体对应的上述无机膜上的位置形 成抗蚀剂膜之步骤; 蚀刻上述无机膜的未形成有上述抗蚀剂膜的部分 之步骤; 去除残存的上述抗蚀剂膜之步骤;及 对经去除上述抗蚀剂膜且经由上述蚀刻而形成图 案的无机膜照射惰性气体离子之步骤。 6.一种固态摄像元件,系利用申请专利范围第5项所 述的方法所制造者。 图式简单说明: 第1图(A)至(D)是表示本发明第1实施方式的固态摄 像元件制造步骤的固态摄像元件剖视图。 第2图(E)至(G)是表示本发明第1实施方式的固态摄 像元件制造步骤(第1图所示步骤的继续)的固态摄 像元件剖视图。 第3图(A)至(C)是表示本发明第2实施方式的固态摄 像元件制造步骤的固态摄像元件俯视图。 |
