发明名称 一种碳化硅/二氧化硅同轴纳米电缆的制备方法
摘要 本发明涉及一种同轴纳米电缆的制备方法领域,具体为碳化硅/二氧化硅(内芯/外层)同轴纳米电缆的制备方法领域。本发明中碳化硅/二氧化硅(内芯/外层)同轴纳米电缆的制备方法如下:将硅油、硅脂或硅氧烷置于刚玉坩埚或刚玉舟内,将刚玉坩埚或刚玉舟放在耐高温板上面,然后把耐高温板推入高温炉,排出炉内氧气,并以6-15sccm的速率通入惰性气体保护,以5-15℃/min的速度将炉温升到1000-1100℃,保温1-5小时后自然降到室温。利用本发明所说的方法生成产物均为碳化硅/二氧化硅(内芯/外层)同轴纳米电缆,且长度比现有的方法制备的提高了2个量级,是迄今为止报道的最长的纳米电缆,且制备方法简单,原料便宜易得,设备要求简化,成本低,产率高。
申请公布号 CN1892978A 申请公布日期 2007.01.10
申请号 CN200510027495.8 申请日期 2005.07.04
申请人 同济大学 发明人 蔡克峰;雷强;张留成
分类号 H01L21/00(2006.01);H01B13/016(2006.01);B82B3/00(2006.01) 主分类号 H01L21/00(2006.01)
代理机构 上海光华专利事务所 代理人 余明伟
主权项 1、碳化硅/二氧化硅(内芯/外层)同轴纳米电缆的制备方法,该方法步骤如下:将硅油、硅脂或硅氧烷置于刚玉坩埚或刚玉舟内,将刚玉坩埚或刚玉舟放在耐高温板上面,然后把耐高温板推入高温炉,排出炉内氧气,并以6-15sccm的速率通入惰性气体保护,以5-15℃/min的速度将炉温升到1000-1100℃,保温1-5小时后自然降到室温。
地址 200092上海市四平路1239号