| 发明名称 | 光刻装置、污染物收集器和器件制造方法 | ||
| 摘要 | 一种光刻装置，包括具有用于产生辐射光束的辐射源的辐射系统和布置在辐射光束的路径中的污染物收集器。所述污染物收集器包括多个限定通道的薄片或板，所述通道布置成大体上平行于所述辐射光束的传播方向。所述薄片或板相对辐射光束的光轴大体上径向地定向。所述污染物收集器具有气体喷射器，其配置成在至少两个不同位置将气体直接喷射到污染物收集器的至少一个通道中。 | ||
| 申请公布号 | CN1892441A | 申请公布日期 | 2007.01.10 |
| 申请号 | CN200610103121.4 | 申请日期 | 2006.07.05 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | L·A·斯杰梅诺克;V·Y·巴尼内;J·J·史米特斯;L·A·范登维尔登波格;A·A·施米特;A·C·瓦辛克;P·P·A·A·布罗姆;E·L·W·弗帕兰;A·J·范德帕斯 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 肖春京 |
| 主权项 | 1.一种光刻装置，包括：具有用于产生辐射光束的辐射源的辐射系统；和布置在辐射光束的路径中的污染物收集器(10；11；510)，所述污染物收集器(10；11；510)包括多个限定通道(Ch)的薄片或板(11；111；211；311；411；511)，所述通道布置成大体上平行于所述辐射光束的传播方向，其中所述污染物收集器(10；11；510)具有气体喷射器(12；112；512)，该气体喷射器配置成在至少两个不同位置将气体直接喷射到污染物收集器的至少一个通道中。 | ||
| 地址 | 荷兰费尔德霍芬 | ||