| 发明名称 |
Ein Verfahren zum Trocknen von Substraten |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE69735971(T2) |
申请公布日期 |
2007.01.04 |
| 申请号 |
DE19976035971T |
申请日期 |
1997.02.27 |
| 申请人 |
TOKYO ELECTRON LTD. |
发明人 |
KAMIKAWA, YUJI;UENO, KINYA |
| 分类号 |
H01L21/00;F26B5/04;F26B21/14;H01L21/302;H01L21/306 |
主分类号 |
H01L21/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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