Modell für eine fortschrittliche Prozesssteuerung, das eine Solloffsetgröße umfaßt

摘要

Eine fortschrittliche Prozesssteuerungs(advanced process controll (APC))-Architektur, die ein Prozessmodell umfasst, das eine Solloffsetgröße einschließt, wird bereitgestellt. Die APC-Architektur kann z. B. für die Steuerung von CMP-Prizessen oder für ein so genanntes (develop inspect critical dimension (DICD)) Modell, das kritische Abmessungen entwickelter Photolackelemente berücksichtigt, angewendet werden, wobei das Modell die Solloffsetgröße zum Korrigieren zumindest eine Belichtungsparameters bei Auftreten eines abrupten Erreignisses verwendet. Ein entsprechendes Ereignis kann, zum Beispiel ein modifiziertes Reflexionsvermögen, auf Grund einer Wiederaufarbeitung eines zuvor belichteten Substrates, das mit einem amorphen Kohlenstoffmaterial bedeckt ist, sein.