发明名称 氮化物类化合物半导体发光元件之制造方法
摘要 于氮化物系化合物半导体发光元件之制造方法中,于基板(10)上形成含有复数个氮化物系化合物半导体层(5,6)之半导体积层构造,利用雷射照射将基板自半导体积层构造剥离,并且洗净基板剥离后所露出之半导体积层构造之露出表面(81),于该经洗净之露出表面上形成电极(7;11)。
申请公布号 TW200701516 申请公布日期 2007.01.01
申请号 TW094142795 申请日期 2005.12.05
申请人 夏普股份有限公司 发明人 幡俊雄
分类号 H01L33/00(2006.01) 主分类号 H01L33/00(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文;林宗宏
主权项
地址 日本