发明名称 微影器与其制造方法及由此微影器制造之器件
摘要 本发明提供一种微影投影装置,其包含:.一用于供应一投影辐射束之辐射系统;.一具有一用于固持一光罩之光罩固持器的光罩台;.一具有一用于固持一基板之基板固持器的基板台;.一用于使该光罩之一经照射部分成像于该基板之一目标部分上的投影系统,藉此:a)藉由一介入空间使该投影系统自该基板台分离,该介入空间可至少部分地经抽空且藉由一固体表面而定界于该投影系统之位置处,所使用之辐射系自该固体表面导向该基板台;b)该介入空间含有一位于该固体表面与该基板台之间并处于该辐射之路径周围的中空管,该管之外形及尺寸为使得由投影系统聚焦于该基板台上之辐射不与该中空管之一壁相交的外形及尺寸;c)提供用于利用一气体流持续冲洗该中空管内部的构件,其中该气体为氢、氦、氘化氢、氘或一氩及氢之混合物,且该气体之该流动与来自该基板之污染物的流动相对且/或该中空管与该介入空间处于流体连通。
申请公布号 TW200700927 申请公布日期 2007.01.01
申请号 TW095110752 申请日期 2006.03.28
申请人 ASML公司 发明人 乔汉娜 汉瑞克斯 威贺莫斯 贾古柏;HENRICUS WILHELMUS;凡丁 叶弗真叶米希 白尼;布瑞斯特 巴瑞 多德利;法拉帝莫 维塔拉维屈 依法诺;贝堤安 玛希亚 麻登斯;强尼斯 贺伯特斯 莎菲纳 摩斯;JOSEPHINA;罗博特 高登 李夫瑟;贝迪安 赛多尔 瓦企茄恩
分类号 G03F7/20(2006.01);G03F9/02(2006.01);G02B27/18(2006.01);G02B26/12(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 荷兰