高折射率均匀性融熔矽石玻璃及制造方法

摘要

本发明揭示出高纯度熔融矽石玻璃材料在垂直于光轴平面中具有高度OH浓度均匀性，以及制造该材料之处理过程。玻璃具有高度折射率均匀性。在193nm下玻璃具有高度内部透射性至少为99.65％。处理过程并不会需要后烧结均匀化之步骤。高度组成份均匀性因而产生高度折射率均匀性之控制因素包含在粉尘预制件中为高度初始局部粉尘密度均匀性，特别是在固结过程中之等温处理。