发明名称 用于天线校准之远场源模拟器
摘要 一用于弹导飞弹之雷达天线在飞行途中使用一微波辐射点源以及一用以模拟远场源之透镜加以校准。微波源以及透镜安装在天线罩引端金属帽之后,并因而不至于对雷达有负面影响。本发明揭示数种对点源供能的技术,并揭示数种透镜配置方式。本发明允许雷达天线在飞行途中被校准,确保不至于发生因为元件老化、热、以及在储存与/或投掷飞弹所需之机械力等因素所产生的欠校准。
申请公布号 TWI269876 申请公布日期 2007.01.01
申请号 TW091119354 申请日期 2002.08.27
申请人 瑞西恩公司 发明人 戴尔麻L. 巴克;何瑞A. 史密特;大卫J. 奈浦;丹尼斯C. 布朗瑞特;阿方索A. 萨牧尔;史地文.殊兹
分类号 G01R29/10(2006.01);H01Q1/42(2006.01) 主分类号 G01R29/10(2006.01)
代理机构 代理人 林镒珠 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项 1.一种用于校准多通道雷达天线之装置,包含: 一雷达天线; 一天线罩,覆盖在该天线的前方表面; 一微波辐射点源,位于该天线罩内;以及 一透镜,位于该天线罩内,其形状系用于将该微波 辐射由点源转换为平面电磁波。 2.如申请专利范围第1项所述之装置,其中该透镜包 含一折射透镜。 3.如申请专利范围第2项所述之装置,其中该透镜包 含一单透镜。 4.如申请专利范围第2项所述之装置,其中该透镜包 含一复合式透镜。 5.如申请专利范围第1项所述之装置,其中该透镜包 含一法兰森诺透镜。 6.如申请专利范围第1项所述之装置,其中该透镜包 含一绕射光栅。 7.如申请专利范围第1项所述之装置,其中该透镜包 含一反射透镜。 8.如申请专利范围第1项所述之装置,其中该天线罩 包含一金属帽,且该点源系置于该金属帽之后。 9.如申请专利范围第8项所述之装置,其中该透镜位 于该金属帽之后。 10.如申请专利范围第9项所述之装置,其中该金属 帽包含一引端部份及在该引端部份后方之一最大 直径,且透镜之直径等于或小于该金属帽之最大直 径。 11.如申请专利范围第1项所述之装置,其中包含一 连接至该点源之震荡器电路,以及将功率供应至该 震荡器电路之机构。 12.如申请专利范围第11项所述之装置,其中用于将 功率供应至该震荡器电路之该机构包括一连接至 该震荡器电路之光二极体以及用于将电磁辐射供 应至该光二极体之机构。 13.如申请专利范围第12项所述之装置,其中用于将 电磁辐射供应至该光二极体之机构包括一光纤缆 线。 14.如申请专利范围第13项所述之装置,其中该光纤 缆线由该天线后方延伸至该震荡器电路。 15.如申请专利范围第12项所述之装置,其中该用于 将功率供应至该震荡器电路之机构包括一雷射,设 置成用于将雷射能量透过该天线后方的空间传送 至该光二极体。 16.一种将远场校准讯号提供至微波天线之方法,该 微波天线系位于飞弹天线罩之后方,该方法包含下 列步骤: 对位于该微波天线之前的一辐射点源供给能量,以 使该点源发射微波辐射并使用一透镜将该所发射 之辐射转换为平面电磁波。 17.如申请专利范围第16项所述之方法,包括将该辐 射点源以及透镜设置于该天线罩内之步骤。 18.如申请专利范围第17项所述之方法,其中提供能 量给该点源之步骤包括透过一电缆将功率供应给 一震荡器电路之步骤。 19.如申请专利范围第17项所述之方法,其中提供能 量给该点源之步骤包括透过一光纤缆线将功率供 应给一震荡器电路之步骤。 20.如申请专利范围第17项所述之方法,其中提供能 量给点源之步骤包括透过自由空间雷射辐射将功 率供应给一震荡器电路之步骤。 21.如申请专利范围第16项所述之方法,其中使该辐 射通过一透镜之方法包括使用一折射透镜之步骤 。 22.如申请专利范围第16项所述之方法,其中使该辐 射通过一透镜之方法包括使用一反射透镜之步骤 。 23.如申请专利范围第16项所述之方法,其中使该辐 射通过一透镜之方法包括使用一法兰森诺透镜之 步骤。 24.如申请专利范围第16项所述之方法,其中使该辐 射通过一透镜之方法包括使用一复合式透镜之步 骤。 25.一种用于校准飞弹中雷达天线之装置,该雷达天 线具有圆形前端表面,该飞弹之一天线罩在其引端 部位具有一金属帽,该装置包括:一双极天线,以比 例之方式用于模拟一微波辐射点源;以及一透镜, 其形状系用以将该点源所射出之辐射转换为平面 电磁辐射,使其波前实质平行于该雷达天线之前端 表面,该双极与透镜系位于该天线罩之内及该金属 帽之后。 图式简单说明: 图1系侧视图,部份为横截面,以示意方式显示用于 本发明的飞弹的前端部份、其雷达天线、天线罩 、点源、以及一透镜;而 图2则为图1所示之雷达天线的前视图。
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