| 摘要 |
Предлагаемый вакуумный кластер и его варианты предназначены для использования в области вакуумного напыления материалов на подложки, в том числе объемные, например кинескопы, плоские дисплеи и т.д., с целью создания тонкопленочных многослойных покрытий на их фронтальной поверхности и может быть использован для формирования многокомпонентных и многослойных покрытий из различных материалов в многокластерных вакуумных установках. Вакуумный кластер согласно первому варианту выполнения отличается от известных установок аналогичного назначения тем, что в нем вакуумная камера снабжена основным и по меньшей мере одним технологическим отсеками, при этом технологическое устройство размещено в технологическом отсеке вакуумной камеры и установлено с возможностью возвратно-поступательного перемещения в основной отсек вакуумной камеры параллельно поверхности подложкодержателя и/или подложки, а механизм перемещения технологического устройства размещен за пределами вакуумной камеры и связан с технологическим устройством с помощью держателей, снабженных коммуникационными элементами, предназначенными для питания технологического устройства. А согласно второму варианту выполнения в вакуумном кластере вакуумная камера снабжена основным и по меньшей мере одним технологическим отсеками, причем основной отсек вакуумной камеры оснащен отверстием и вакуумным затвором, предназначенными для соединения основного отсека с технологическим в единый технологический блок и установленными в плоскости, перпендикулярной плоскости подложкодержателя и/или подложки, при этом технологический отсек выполнен в виде отд |
