发明名称 | 非挥发性记忆体的制造方法 | ||
摘要 | 本发明系提供一种非挥发性记忆体的制造方法,特别是一种电阻式非挥发性记忆体,其步骤包括有提供一基底,在该基底上形成一下导电层,利用在该下导电层上涂布一含有锆与锶之前趋物的溶液,并施以一乾燥步骤,以在该下导电层上形成一含有锆酸锶的电阻层,以及在该电阻层上形成一上导电层。 | ||
申请公布号 | TW200644182 | 申请公布日期 | 2006.12.16 |
申请号 | TW094119818 | 申请日期 | 2005.06.15 |
申请人 | 华邦电子股份有限公司 | 发明人 | 曾俊元;刘志益;庄俊杰 |
分类号 | H01L21/8247(2006.01) | 主分类号 | H01L21/8247(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 洪澄文;颜锦顺 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区研新三路4号 |