发明名称 非挥发性记忆体的制造方法
摘要 本发明系提供一种非挥发性记忆体的制造方法,特别是一种电阻式非挥发性记忆体,其步骤包括有提供一基底,在该基底上形成一下导电层,利用在该下导电层上涂布一含有锆与锶之前趋物的溶液,并施以一乾燥步骤,以在该下导电层上形成一含有锆酸锶的电阻层,以及在该电阻层上形成一上导电层。
申请公布号 TW200644182 申请公布日期 2006.12.16
申请号 TW094119818 申请日期 2005.06.15
申请人 华邦电子股份有限公司 发明人 曾俊元;刘志益;庄俊杰
分类号 H01L21/8247(2006.01) 主分类号 H01L21/8247(2006.01)
代理机构 代理人 洪澄文;颜锦顺
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区研新三路4号