发明名称 金属连接线压印镶嵌结构之制造
摘要 本发明系先利用电子束微影术与无电极电镀法制作奈米金属导线,及利用化学气相沈积或旋涂方式制作低介电材料,再将金属导线转印至低介电材料中以形成金属镶嵌结构,可成为目前化学机械研磨法之低介电金属镶嵌结构的解决方案。
申请公布号 TW200644158 申请公布日期 2006.12.16
申请号 TW094118432 申请日期 2005.06.03
申请人 清华大学 发明人 刘仁福;陈建亨;徐永任;叶凤生
分类号 H01L21/768(2006.01);C23C18/00(2006.01) 主分类号 H01L21/768(2006.01)
代理机构 代理人 欧奉璋
主权项
地址 新竹市光复路2段101号