发明名称 REALISATION DE DEUX ELEMENTS SUPERPOSES AU SEIN D'UN CIRCUIT ELECTRONIQUE INTEGRE
摘要 Un procédé de réalisation de deux éléments (1a, 4a) superposés au sein d'un circuit électronique intégré permet de réduire ou de supprimer des marges d'alignement autour de ces éléments. Des côtés (12, 13) de l'élément de circuit supérieur (4a) sont définis par des bords de l'élément de circuit inférieur (1a), lors d'une étape d'exposition du circuit à un rayonnement lithographique. D'autres côtés (11a, 11b) de l'élément de circuit supérieur (4a) sont définis par une couche qui atténue une réflexion du rayonnement sur l'élément de circuit inférieur (1a). Le procédé peut être appliqué à une réalisation de connexions électriques.
申请公布号 FR2887075(A1) 申请公布日期 2006.12.15
申请号 FR20050005880 申请日期 2005.06.09
申请人 STMICROELECTRONICS (CROLLES) 2 SAS SOCIETE PAR ACTIONS SIMPLIFIEE;COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE 发明人 BUSTOS JESSY;THONY PHILIPPE;CORONEL PHILIPPE
分类号 H01L21/768;H01L21/8244;H01L27/11 主分类号 H01L21/768
代理机构 代理人
主权项
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