用来确定和控制污染的系统和方法

摘要

优选的实施方案包括在半导体加工系统中用来监测放置在气流中的过滤器的性能的方法。该方法包括在过滤器上游的某个位置抽取气流样品以检测出现在气流中的分子污染物；识别上游污染物的目标物种；选择浓度高于目标物种浓度的污染物的非污染物种；在众多位置测量气流中的非污染物种；以及依据非污染物种的测量结果确定过滤器关于目标物种的性能。众多位置包括在过滤器下游的位置和在过滤器里面的位置。此外，用来监测的方法包括产生在过滤器上游某个位置采样的气流的色谱的数字表达。用来监测的方法包括分子量低于目标物种的非污染物种。除此之外，在用来监测的方法中采样步骤包括收集难熔的化合物，高分子量化合物和低分子量化合物。过滤器包含吸附性物质。

主权项

1.一种用来检测和监测半导体加工系统中的污染的方法，该方法包括下述步骤：把气体样品从半导体加工系统输送到有饱和量的收集装置，该处理系统包括影印法器具的光学系统；以及在所对应的样品体积超过收集装置的饱和量的采样持续时间里用收集装置收集来自所述气体的污染，以测量光学系统的污染。