| 主权项 |
1.一种显示装置的制造方法,系于基板上至少形成第1电极膜,发光膜及第2电极膜者,其特征为:藉由雷射蚀刻来使至少其中的一个膜图案化。2.如申请专利范围第1项之显示装置的制造方法,其中对上述第1及第2电极膜的至少其中一个施以上述图案化来形成画素电极。3.如申请专利范围第1或2项之显示装置的制造方法,其中上述发光膜为有机EL膜。4.一种显示装置的制造方法,其特征为包含:在基板上形成第1电极膜之过程;藉由雷射蚀刻来使形成于上述基板的第1电极膜图案化,而形成复数个画素电极之过程;形成一使上述画素电极相互间绝缘,且覆盖各画素电极的边缘部的绝缘膜之绝缘膜形成过程;在各画素电极上形成发光膜之过程;及在各发光膜上形成第2电极之过程。5.如申请专利范围第4项之显示装置的制造方法,其中上述绝缘膜形成过程系以能够覆盖藉由上述雷射蚀刻而产生于上述画素电极的边缘部的上卷之方式,形成上述绝缘膜。6.如申请专利范围第4或5项之显示装置的制造方法,其中上述绝缘膜为画定画素区域的隔壁膜。7.如申请专利范围第4或5项之显示装置的制造方法,其中上述绝缘膜为光阻剂或氧化矽。8.如申请专利范围第4或5项之显示装置的制造方法,其中上述发光膜为有机EL膜。9.一种显示装置,其特征系于基板上至少具有阳极膜,有机EL膜及阴极膜,阴极膜会藉由雷射蚀刻来图案化。图式简单说明:图1(a)~(f)是用以说明有机EL显示装置的制造过程的过程图。图2是用以说明有机EL显示装置的画素部份的说明图。图3是用以说明利用阴极隔板的以往来构成的说明图。图4(a)~(c)是用以说明与以往构成相异的比较例。 |
