| 主权项 |
1.一种涟漪结构薄膜的制造方法,其系包括有下列 步骤: 提供一弹性薄膜; 提供一拉伸力将该弹性薄膜拉伸到固定之应变,以 形成一应变薄膜; 于该应变薄膜上形成一薄膜层;以及 释放该拉伸力,使该弹性薄膜表面上形成有一涟漪 结构。 2.如申请专利范围第1项所述之涟漪结构薄膜的制 造方法,其中该弹性薄膜系可为一高分子材料。 3.如申请专利范围第2项所述之涟漪结构薄膜的制 造方法,其中该高分子材料系为一聚二甲基矽氧烷 (polydimethylsiloxane, PDMS)。 4.如申请专利范围第1项所述之涟漪结构薄膜的制 造方法,其中该薄膜层系为一异质薄膜。 5.如申请专利范围第4项所述之涟漪结构薄膜的制 造方法,其中该异质薄膜系可选择为一金属材料以 及一陶瓷材料其中之一。 6.一种具有涟漪结构之模具的制造方法,其系包括 有下列步骤: 提供一弹性薄膜; 提供一拉伸力将该弹性薄膜拉伸到固定之应变,以 形成一应变薄膜; 于该应变薄膜上形成一薄膜层; 释放该拉伸力,使该弹性薄膜表面上形成有一涟漪 结构;以及 利用一制模程序,利用具有该涟漪结构之薄膜制作 一模具。 7.如申请专利范围第6项所述之具有涟漪结构之模 具的制造方法,其中该模具系为一平板模具。 8.如申请专利范围第7项所述之具有涟漪结构之模 具的制造方法,其中该应变薄膜之拉伸应变量系为 30%至110%。 9.如申请专利范围第7项所述之具有涟漪结构之模 具的制造方法,其中该涟漪结构之波长系介于500奈 米至6000奈米。 10.如申请专利范围第7项所述之具有涟漪结构之模 具的制造方法,其中该涟漪结构之振幅系介于50奈 米至1900奈米。 11.如申请专利范围第7项所述之具有涟漪结构之模 具的制造方法,其中该制模程序系为一电铸翻模方 式,其系包括有下列步骤: 制作与该涟漪结构相反之一母模;以及 沉积一材料层于该母模上,然后与该母模脱离以形 成该平板模具。 12.如申请专利范围第11项所述之具有涟漪结构之 模具的制造方法,其中该材料层系可选择为一镍、 铜、镍合金、铜合金其中之一者。 13.如申请专利范围第6项所述之具有涟漪结构之模 具的制造方法,其中该弹性薄膜系可为一高分子材 料。 14.如申请专利范围第13项所述之具有涟漪结构之 模具的制造方法,其中该高分子材料系为一聚二甲 基矽氧烷(polydimethylsiloxane, PDMS)。 15.如申请专利范围第6项所述之具有涟漪结构之模 具的制造方法,其中该薄膜层系为一异质薄膜。 16.如申请专利范围第15项所述之具有涟漪结构之 模具的制造方法,其中该异质薄膜系可选择为一金 属材料以及一陶瓷材料其中之一。 17.如申请专利范围第6项所述之具有涟漪结构之模 具的制造方法,其中该弹性薄膜系形成于一滚轮上 ,且该模具系为一滚筒模具。 18.如申请专利范围第17项所述之具有涟漪结构之 模具的制造方法,其中该应变薄膜之拉伸应变量系 为5~24%。 19.如申请专利范围第17项所述之具有涟漪结构之 模具的制造方法,其中该涟漪结构之波长系为2200~ 11200奈米。 20.如申请专利范围第17项所述之具有涟漪结构之 模具的制造方法,其中该涟漪结构之振幅系为990~ 5800奈米。 21.如申请专利范围第17项所述之具有涟漪结构之 模具的制造方法,其中该制模程序系为一两次电铸 翻模方式。 22.如申请专利范围第21项所述之具有涟漪结构之 模具的制造方法,其中该两次电铸翻模方式更包括 有下列步骤: 提供一套筒,并将该滚轮置入于该套筒内; 形成一第一材料层介于该套筒内壁与该涟漪结构 之间,以制作具有与该涟漪结构相反之一母模; 去除该弹性材料层;以及 沉积一第二材料层于该滚轮与该母模之间,然后与 该母模脱离以形成该滚筒模具。 23.如申请专利范围第17项所述之具有涟漪结构之 模具的制造方法,其中该滚轮的截面系可选择为圆 形、方形、三角形以及多边形其中之一者。 图式简单说明: 图一系为本发明涟漪结构薄膜制造方法较佳实施 例流程图。 图二系为本发明涟漪结构波形示意图。 图三A至图三H系为本发明具有涟漪结构之模具的 制造方法之第一较佳实施例示意图。 图四A至图四H系为本发明具有涟漪结构之模具的 制造方法之第二较佳实施例示意图。 |
