Verfahren und Schaltungsstruktur, die eine photoabgebildete Lötmaske verwenden

摘要

Bei einem Ausführungsbeispiel wird ein photoabbildbares Material auf eine Schaltungsstruktur aufgebracht. Das photoabbildbare Material wird dann gegenüber einem Strahlungsmuster ausgesetzt, wodurch Abschnitte des photoabbildbaren Materials polymerisieren. Nichtpolymerisierte Abschnitte des photoabbildbaren Materials werden dann entfernt, um eine Lötmaske zu definieren, die Lötaufbringungsbereiche aufweist. Lötmittel wird dann in den Lötaufbringungsbereichen aufgebracht. Eine Schaltungsstruktur, die gemäß diesem Verfahren erzeugt werden könnte, ist ebenso offenbart.