发明名称 导电图形制作方法
摘要 本发明提供了一种导电图形制作方法,包括步骤:在绝缘基底上采用真空蒸镀法镀一金属层;在所述金属层上印刷一耐化学腐蚀性保护层图形,所述保护层图形相应于所要制作的导电图形;采用化学腐蚀去除所述保护层图形覆盖区域以外的金属,在所述薄膜基底上得到所要制作的导电图形。该导电图形制作方法成本低、速率快,同时能精确控制镀层厚度。
申请公布号 CN1874653A 申请公布日期 2006.12.06
申请号 CN200510073144.0 申请日期 2005.05.31
申请人 李华容 发明人 李华容
分类号 H05K3/06(2006.01) 主分类号 H05K3/06(2006.01)
代理机构 北京银龙知识产权代理有限公司 代理人 张敬强
主权项 1.一种导电图形制作方法,包括步骤:1)在绝缘基底上采用真空蒸镀法镀一金属层;2)在所述金属层上印刷一耐化学腐蚀性保护层图形,所述保护层图形相应于所要制作的导电图形;3)采用化学腐蚀去除所述保护层图形覆盖区域以外的金属,在所述薄膜基底上得到所要制作的导电图形。
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