发明名称 |
导电图形制作方法 |
摘要 |
本发明提供了一种导电图形制作方法,包括步骤:在绝缘基底上采用真空蒸镀法镀一金属层;在所述金属层上印刷一耐化学腐蚀性保护层图形,所述保护层图形相应于所要制作的导电图形;采用化学腐蚀去除所述保护层图形覆盖区域以外的金属,在所述薄膜基底上得到所要制作的导电图形。该导电图形制作方法成本低、速率快,同时能精确控制镀层厚度。 |
申请公布号 |
CN1874653A |
申请公布日期 |
2006.12.06 |
申请号 |
CN200510073144.0 |
申请日期 |
2005.05.31 |
申请人 |
李华容 |
发明人 |
李华容 |
分类号 |
H05K3/06(2006.01) |
主分类号 |
H05K3/06(2006.01) |
代理机构 |
北京银龙知识产权代理有限公司 |
代理人 |
张敬强 |
主权项 |
1.一种导电图形制作方法,包括步骤:1)在绝缘基底上采用真空蒸镀法镀一金属层;2)在所述金属层上印刷一耐化学腐蚀性保护层图形,所述保护层图形相应于所要制作的导电图形;3)采用化学腐蚀去除所述保护层图形覆盖区域以外的金属,在所述薄膜基底上得到所要制作的导电图形。 |
地址 |
518067广东省深圳市南山区太子路59号华达大厦203 |