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发明名称
晶片结构及其形成方法
摘要
一种晶片结构,包括:一晶片、一凸块下金属层及一导电凸块。凸块下金属层系形成于晶片上。导电凸块形成于凸块下金属层上,导电凸块包括:第一表面及第二表面。第一表面连接凸块下金属层。第二表面用以连接一接点。其中,第二表面之表面积系小于第一表面之表面积。
申请公布号
TW200642047
申请公布日期
2006.12.01
申请号
TW094115830
申请日期
2005.05.16
申请人
日月光半导体制造股份有限公司
发明人
王盟仁;刘千
分类号
H01L23/28(2006.01)
主分类号
H01L23/28(2006.01)
代理机构
代理人
林素华
主权项
地址
高雄市楠梓加工区经三路26号
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