| 主权项 |
1.一种具有内凹锥镜部之雷射光产生装置,其包括:一内凹锥镜部,其具有一入光面、一反光凹锥面及一出光面;该内凹锥镜部具有一预定之透光度,该入光面系概呈一圆形平面,该反光凹锥面具有一第一轴心线且该反光凹锥面之锥度系为45度,又该出光面概呈一环状表面且大体上平行该第一轴心线;一发光模组,其用以朝该内凹锥镜部之入光面发出一预定波长范围之雷射光,该雷射光之光束横切面系概呈圆形,且该雷射光之发射方向系对准该第一轴心线;藉此,当该发光模组发出该雷射光后,该雷射光会穿过该入光面进入该内凹锥镜部内部,再经过该反光凹锥面反射成360度散开之光束,并穿透该出光面而照射出。2.如申请专利范围第1项所述之具有内凹锥镜部之雷射光产生装置,其中:该发光模组又具有一定位接触面,其用以接触该入光面。3.如申请专利范围第1项所述之具有内凹锥镜部之雷射光产生装置,其中:该入光面上系设一入光曲面。4.如申请专利范围第1项所述之具有内凹锥镜部之雷射光产生装置,其中:该入光面上系设一入光滤膜。5.如申请专利范围第1项所述之具有内凹锥镜部之雷射光产生装置,其中:该反光凹锥面上系设一反光强化元件。6.如申请专利范围第1项所述之具有内凹锥镜部之雷射光产生装置,其中:该出光面上系设一出光曲面。7.如申请专利范围第1项所述之具有内凹锥镜部之雷射光产生装置,其中:该出光面上系设一出光滤膜。图式简单说明:第一图系本创作之第一实施例示意图第二图系第一图之平面示意图第三图系本创作之实际应用示意图第四图系第三图之平面示意图第五图系本创作之第二实施例示意图第六图系本创作之第三实施例示意图第七图系习用结构之实施例之平面示意图 |
