发明名称 用于无电镀金之触媒先质组成物以及使用该触媒先质组成物之透明电磁干扰遮蔽材料的制备方法
摘要 本发明系有关于一种用于无电镀金的触媒先质组成物,特别的是本发明在于提供一种包含有(a)一种反应性低聚物,(b)一种反应性单体,(c)一种光引发剂,(d)一种用于无电镀金的触媒先质,和(e)一种溶剂的触媒先质组成物,和一种使用该触媒先质组成物而制备一电磁干扰遮蔽材料的制备方法。本发明提供一种简单容易的电磁干扰遮材料的制备方法,该方法系使用含有UV可固化,且对基材具有良好黏合性之树脂的触媒先质组成物,以致可以免除在无电镀金之前需先对基材加以预处理以形成一接受层的步骤。
申请公布号 TWI267531 申请公布日期 2006.12.01
申请号 TW093122464 申请日期 2004.07.27
申请人 LG化学股份有限公司 发明人 刘承训;李章熏
分类号 C08K5/10(2006.01);H05K9/00(2006.01) 主分类号 C08K5/10(2006.01)
代理机构 代理人 刘緖伦 台中市南屯区永春东一路549号3楼
主权项 1.一种用于无电镀金的触媒先质组成物,其包含有: (a)一种反应性低聚物,该反应性低聚物具有丙烯酸 酯或甲基丙烯酸酯作为一官能基,以及范围从500到 5000的分子量; (b)一种反应性单体,该反应性单体具有丙烯酸酯或 甲基丙烯酸酯作为一官能基,和范围从100到600的分 子量; (c)一种光引发剂,该光引发剂是从-羟基酮,苯基 乙醛酸,苯偶醯二甲基缩醛,-氨基酮,单醯基膦, 双醯基膦,及其混合物所构成之族群中所选用者; (d)一种用于无电镀金之触媒先质,该触媒先质是种 包含VIII B族金属或IB族金属的无机化合物或有机 化合物;以及 (e)一种溶剂。 2.如申请专利范围第1项所述之用于无电镀金的触 媒先质组成物,其中该(a)反应性低聚物是从丙烯酸 胺基甲酸乙酯,二丙烯酸胺基甲酸乙酯,三丙烯酸 胺基甲酸乙酯,甲基丙烯酸胺基甲酸乙酯,环氧丙 烯酸酯,环氧二丙烯酸酯,聚酯丙烯酸酯,丙烯酸丙 烯酸酯,及其混合物所构成之族群中所选用者。 3.如申请专利范围第1项所述之用于无电镀金的触 媒先质组成物,其中该(b)反应性单体是从异冰片丙 烯酸酯,丙烯酸辛酯,丙烯酸癸酯,1,6-己二醇二丙烯 酸酯,二丙二醇二丙烯酸酯,三丙二醇二丙烯酸酯, 三乙二醇二丙烯酸酯,四乙二醇二丙烯酸酯,乙氧 基新戊二醇二丙烯酸酯,丙氧基新戊二醇二丙烯酸 酯,2-苯氧基乙基丙烯酸酯,丙氧基甘油基三丙烯酸 酯,乙氧基三甲醇基丙烷三丙烯酸酯,季戊四醇三 丙烯酸酯,及其混合物所构成之族群中所选用者。 4.如申请专利范围第1项所述之用于无电镀金的触 媒先质组成物,其中该(d)用于无电镀金之触媒先质 ,是种包括羰基或烯烃基,以及Pd2+的有机化合物的 盐类。 5.如申请专利范围第4项所述之用于无电镀金的触 媒先质组成物,其中该有机化合物的盐类是从醋酸 钯,三氟醋酸钯,草酸钯,乙醯丙酮酸钯,及其混合物 所构成之族群中所选用者。 6.如申请专利范围第1项所述之用于无电镀金的触 媒先质组成物,其中该(e)溶剂是从三氯甲烷,乙, 甲基乙基酮,醋酸乙酯,及其混合物所构成之族群 中所选用者。 7.一种透明电磁干扰遮蔽材料的制备方法,包含有 下列步骤: 将一种包含有(a)一种反应性低聚物、(b)一种反应 性单体、(c)一种光引发剂、(d)一种用于无电镀金 之触媒先质以及(e)一种溶剂之触媒先质组成物,以 一格状图样之型态印在一透明基材上; 照射紫外(UV)线使其固化;以及 在基材的固化表面上进行无电镀金。 8.一种透明电磁干扰遮蔽材料,其系以申请专利范 围第7项所述之制备方法制备者。 9.如申请专利范围第8项所述之透明电磁干扰遮蔽 材料,其包括由下往上层合的一基材,一紫外线可 固化层,以及一无电镀金层。 图式简单说明: 第一图系依据本发明一实施例所提供之PDP的配置 图;以及 第二图系第一图所示PDP之PDP滤光片的放大剖视图 。
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