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Dünnschicht-Verarbeitungssysteme und -verfahren werden bereitgestellt, die einen sich bewegenden Abscheidungssensor umfassen, der dazu geeignet ist, sich translatorisch und/oder rotatorisch derart zu bewegen, dass der Sensor Dünnschicht-Abscheidungsumgebungen in einem Strömungsbereich ausgesetzt ist, die im Wesentlichen dieselben sind wie die Abscheidungsumgebungen, die ein oder mehrere bewegliche Substrate während einer ausgewählten Abscheidezeitspanne erfahren. In einer Ausführungsform wird ein Dünnschichtmess- und -steuersystem bereitgestellt, wobei ein oder mehrere bewegliche Substrate und ein beweglicher Abscheidungssensor während einer ausgewählten Abscheidezeitspanne in einem Strömungsbereich eines Dünnschichtabscheidungssystems entlang im Wesentlichen zusammenfallender Trajektorien bewegt werden. Die Systeme und Verfahren der vorliegenden Erfindung können Quarz-Kristall-Mikrowaagen-Abscheidesensoren umfassen, die dazu geeignet sind, in wenigstens zwei unterschiedlichen Resonanzmoden angeregt zu werden.
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