发明名称 |
清洗装置、处理盒、成像装置及调色剂 |
摘要 |
本发明提供一种环境条件变化引起的清洗性能变动少的清洗装置,还提供一种与感光体的摩擦系数低,采用清洗刮刀的清洗性能优良的清洗装置。在与旋转的感光体1等被清扫体接触,且具有对其表面进行清洗的清洗刮刀8a的清洗装置8中,清洗刮刀8a在赋予10Hz的正弦波振动时的损失正切(tanδ)的峰温度处于2~-30℃的范围内,另外,该清洗装置8,其与感光体1等被清扫体表面的静摩擦系数低。 |
申请公布号 |
CN1287237C |
申请公布日期 |
2006.11.29 |
申请号 |
CN03158767.4 |
申请日期 |
2003.09.24 |
申请人 |
株式会社理光 |
发明人 |
柳田雅人;三瓶敦史;熊谷直洋;小池寿男;新谷刚史;川隅正则;冨田正实;村上荣作;内谷武志 |
分类号 |
G03G21/00(2006.01);G03G15/00(2006.01) |
主分类号 |
G03G21/00(2006.01) |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
张平元;赵仁临 |
主权项 |
1.一种感光鼓的清洗装置,其特征在于,该装置具有:与形成静电潜像的感光体接触,并对其表面进行清洗的清洗刮刀;所述清洗刮刀,在赋予10Hz的正弦波振动时,损失正切(tanδ)的峰温度在2~-30℃的范围内。 |
地址 |
日本东京都 |