发明名称 清洗装置、处理盒、成像装置及调色剂
摘要 本发明提供一种环境条件变化引起的清洗性能变动少的清洗装置,还提供一种与感光体的摩擦系数低,采用清洗刮刀的清洗性能优良的清洗装置。在与旋转的感光体1等被清扫体接触,且具有对其表面进行清洗的清洗刮刀8a的清洗装置8中,清洗刮刀8a在赋予10Hz的正弦波振动时的损失正切(tanδ)的峰温度处于2~-30℃的范围内,另外,该清洗装置8,其与感光体1等被清扫体表面的静摩擦系数低。
申请公布号 CN1287237C 申请公布日期 2006.11.29
申请号 CN03158767.4 申请日期 2003.09.24
申请人 株式会社理光 发明人 柳田雅人;三瓶敦史;熊谷直洋;小池寿男;新谷刚史;川隅正则;冨田正实;村上荣作;内谷武志
分类号 G03G21/00(2006.01);G03G15/00(2006.01) 主分类号 G03G21/00(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 张平元;赵仁临
主权项 1.一种感光鼓的清洗装置,其特征在于,该装置具有:与形成静电潜像的感光体接触,并对其表面进行清洗的清洗刮刀;所述清洗刮刀,在赋予10Hz的正弦波振动时,损失正切(tanδ)的峰温度在2~-30℃的范围内。
地址 日本东京都
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