发明名称 Verfahren zum Herstellen eines mikromechanischen Strukturelementes und Halbleiteranordnung
摘要 Das Verfahren dient zum Herstellen eines mikromechanischen Strukturelementes (13) auf oder in einem Kristallsubstrat (3), wobei das mikromechanische Element (13) schwingbar in einer Ausnehmung (4) des Kristallsubstrates (3) angeordnet ist und mittels eines Steges (15) mit dem Kristallsubstrat (3) verbunden ist, mit folgenden Schritten: Bereitstellen des Kristallsubstrates (3); Abscheiden einer Ätzmaskenschicht (1); lokales Entfernen der Ätzmaskenschicht (1), so dass die verbleibende Ätzmaskenschicht (1) eine Umrandung (8) aufweist, welche sich unter einem vorgebbaren Winkel phi von weniger als 180 DEG auf beiden Seiten eines Anschlussgebietes (19) des Steges (15) an das Kristallsubstrat (3) erstreckt, und Ätzen des Kristallsubstrates (3) zur Bildung der Ausnehmung (4) und des mikromechanischen Strukturelementes (13). Damit wird erreicht, dass eine freigelegte Kristallebene (7) durch das Anschlussgebiet (19) verläuft.
申请公布号 DE102005023059(A1) 申请公布日期 2006.11.23
申请号 DE200510023059 申请日期 2005.05.19
申请人 AUSTRIAMICROSYSTEMS AG 发明人 SCHRANK, FRANZ
分类号 B81C1/00;B81B3/00 主分类号 B81C1/00
代理机构 代理人
主权项
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