发明名称 包含延长纳米级元件的器件及制造方法
摘要 揭示了包含延长纳米级元件的器件的一种制造方法以及这种器件。此器件包含外延生长层,其中置入例如碳纳米管的延长纳米级元件器件。提供支持外延层的外延生长的基片,将延长纳米级元件置于该基片上并且通过外延层外延地快速生长。该延长纳米级元件由此至少部分地由外延生长层封装。在该层中制备一个或者多个部件,该一个或者多个部件通过平版印刷的方法制备。因此可以提供以碳纳米管作为活性元件的器件。该方法适用于在传统半导体器件和纳米器件之间混合的混合装置。
申请公布号 CN1868030A 申请公布日期 2006.11.22
申请号 CN200480029859.X 申请日期 2004.09.10
申请人 哥本哈根大学 发明人 乔纳斯·拉尔夫·豪普特曼;阿尼·珍森;波尔·埃里克·格雷格斯·汉森·林德罗夫;杰斯波·尼杰拉德;贾纳兹·萨多斯基
分类号 H01L21/00(2006.01);C30B25/02(2006.01);C30B25/18(2006.01);C30B33/00(2006.01) 主分类号 H01L21/00(2006.01)
代理机构 北京银龙知识产权代理有限公司 代理人 钟晶
主权项 1.一种使用至少一个外延层快速生长延长纳米级元件的方法,该方法包括步骤:(a)提供基片,其中此基片或者至少基片的顶层具有支持外延层的外延生长的表面;(b)将延长纳米级元件置于该基片上;(c)用外延层外延地快速生长该基片和延长纳米级元件,并且由此至少部分地将该延长纳米级元件封装到外延生长层中;以及,(d)在该层中制备一个或者多个部件,该一个或者多个部件通过平版印刷的方式制备。
地址 丹麦哥本哈根
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