发明名称 阴极溅镀装置
摘要 本发明的阴极溅镀装置,谋求节省空间并提高生产率。在同一阴极溅镀室(14)内设多个支承体(50、52)等。在支承体上设不同种类的对阴极(70a、70b、70c、72a、72b、72c)等。支承体相互间、按相同顺序搭载同一种类对阴极。使各支承体转动,选择成膜时所须的同种对阴极使之面向基板(12、12’)。同时使用多个同种对阴极、成膜一个膜。而后使各支承体转动、选择下一个对阴极,将下一膜层叠于前一膜上。在所述成膜之间以清洗装置清洗成膜时未使用的对阴极。
申请公布号 CN1285755C 申请公布日期 2006.11.22
申请号 CN02143537.5 申请日期 2002.09.27
申请人 安内华股份有限公司 发明人 高桥信行
分类号 C23C14/34(2006.01) 主分类号 C23C14/34(2006.01)
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 何腾云
主权项 1.一种阴极溅镀装置,由多个对阴极同时阴极溅镀来进行成膜,其特征在于,它具有:阴极溅镀室,分别面向搭载于该阴极溅镀室基板支架的基板的被成膜面设置、可绕各自中心轴转动的、对阴极用的多个支承体,相互分开设于该支承体、分别具有多个对阴极搭载面的多个阴极,使前述支承体分别转动,使得搭载于前述支承体的各自一个对阴极搭载面上的对阴极可设定于面向前述被成膜面的成膜位置的、对阴极定位机构。
地址 日本东京
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