首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
高分子化合物、正型光阻组成物及光阻图型之形成方法
摘要
本发明为提供一种光阻组成物,其为含有,由下述式(A0-1)、(A0-2)、(A0-3)或(A0-4)〔式中,R为氢原子或低级烷基〕所示结构单位所成群中所选出之至少1种结构单位(a0),与具有酸解离性溶解抑制基之(α-低级烷基)丙烯酸酯所衍生之结构单位(a1)的高分子化合物。
申请公布号
TWI266771
申请公布日期
2006.11.21
申请号
TW094134016
申请日期
2005.09.29
申请人
东京应化工业股份有限公司
发明人
緖方寿幸;松丸省吾;羽田英夫
分类号
C08F220/18(2006.01);G03F7/039(2006.01);H01L21/027(2006.01)
主分类号
C08F220/18(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
1.一种高分子化合物,其特征为含有,由下述式(A0-1) 、(A0-2)、(A0-3)或(A0-4)[式中,R为氢原子或低级烷基] 所示结构单位所成群中所选出之至少1种结构单位 (a0),与具有酸解离性溶解抑制基之(-低级烷基) 丙烯酸酯所衍生之结构单位(a1)
地址
日本
您可能感兴趣的专利
PROTECTIVE DEVICE FOR SECONDARY BATTERY
BALLAST CIRCUIT FOR GAS DISCHARGE LAMP
DISCHARGE LAMP LIGHTING DEVICE
SUBSTRATE CONVEYING DEVICE
INDUCTION HEATING COOKER
ELECTRONIC STILL CAMERA
LUMINAIRE
AUTOMATIC TRANSMISSION CONTROLLER
PRODUCTION OF KAPPA-CARRAGEENASE
METHYL METHACRYLATE RESIN EXTRUDED PLATE AND MOLDED PRODUCT
FLOOR PAN FOR UNIT BATH AND MOLDING THEREOF
POLYIMIDE FILM
ALIGNER AND DETECTION OF ALIGNMENT MARK
SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND ITS MANUFACTURE
COPOLYMER FOR PHOTORESIST AND PHOTORESIST COMPOSITION
RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION
INDUSTRIAL GERMICIDAL AND BACTERIOSTATIC AGENT AND INDUSTRIAL GERMICIDAL AND BACTERIOSTATIC METHOD
BASKET FOR BICYCLE
PROJECTION ALIGNER
SWITCHING MANAGEMENT OF THERMAL IMPEDANCE FOR REDUCING TEMPERATURE DEVIATION