发明名称 高分子化合物、正型光阻组成物及光阻图型之形成方法
摘要 本发明为提供一种光阻组成物,其为含有,由下述式(A0-1)、(A0-2)、(A0-3)或(A0-4)〔式中,R为氢原子或低级烷基〕所示结构单位所成群中所选出之至少1种结构单位(a0),与具有酸解离性溶解抑制基之(α-低级烷基)丙烯酸酯所衍生之结构单位(a1)的高分子化合物。
申请公布号 TWI266771 申请公布日期 2006.11.21
申请号 TW094134016 申请日期 2005.09.29
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 緖方寿幸;松丸省吾;羽田英夫
分类号 C08F220/18(2006.01);G03F7/039(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 C08F220/18(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种高分子化合物,其特征为含有,由下述式(A0-1) 、(A0-2)、(A0-3)或(A0-4)[式中,R为氢原子或低级烷基] 所示结构单位所成群中所选出之至少1种结构单位 (a0),与具有酸解离性溶解抑制基之(-低级烷基) 丙烯酸酯所衍生之结构单位(a1)
地址 日本