发明名称 |
涂布组成物、光学薄膜、抗反射膜、偏光板及使用它之显示装置 |
摘要 |
本发明系提供一种有用于使用表面状态均匀性高且达成足够之抗反射性能之抗反射膜及相关之抗反射膜的偏光板或显示装置、减低乾燥不均或风乾不均、并且未恶化涂布不均的涂布组成物。该等组成物方面,发现含有包含相当于以通式〔1〕表示之含氟脂肪族基单体的重复单位及相当于以通式〔2〕表示之单体的重复单位之含氟脂肪族基共聚物的涂布组成物。095102807-p01.bmp通式〔1〕中,R^0表示氢原子、卤素原子或甲基,L表示2价的连结基,n表示1以上18以下的整数。通式〔2〕中,R^11表示氢原子、卤素原子或甲基,L^11表示2价的连结基,R^13、R^14、R^15个别表示可具有取代基之碳数1~20的直链、分枝或环状的烷基。095102807-p01.bmp |
申请公布号 |
TW200639225 |
申请公布日期 |
2006.11.16 |
申请号 |
TW095102807 |
申请日期 |
2006.01.25 |
申请人 |
富士照相软片股份有限公司 |
发明人 |
芳泽昌孝;野吕正树;铃木贵登 |
分类号 |
C09D201/04(2006.01);B32B27/30(2006.01);C08F212/04(2006.01);C08F220/00(2006.01);C09D133/16(2006.01);C09D133/24(2006.01);C09D143/00(2006.01);G02B5/30(2006.01);G02B1/11(2006.01) |
主分类号 |
C09D201/04(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
何金涂;何秋远 |
主权项 |
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地址 |
日本 |