发明名称 氨水单相沉淀制备纳米NiO的方法
摘要 本发明公开了一种采用氨水单相沉淀制备纳米NiO的方法,该方法主要是以无机镍盐为原料,以氨水为沉淀剂,在常温条件下通过单相沉淀法制备前驱物,再在105-150℃、0.02-0.3MPa的条件下进行水热改性处理,其沉淀物经过滤、洗涤后在300-800℃下焙烧1-5小时,即可制得粒径为5-13mm的NiO;本方法无需加热溶解沉淀剂,原料价廉、易得,操作简单,成本低,便于实现工业化生产。
申请公布号 CN1861528A 申请公布日期 2006.11.15
申请号 CN200510018697.6 申请日期 2005.05.13
申请人 黄石理工学院 发明人 邓祥义
分类号 C01G53/04(2006.01) 主分类号 C01G53/04(2006.01)
代理机构 黄石市三益专利事务所 代理人 瞿晖
主权项 1.氨水单相沉淀制备纳米Nio的方法,其特征在于包括下述步骤:a.在5-20%(W/V)氨水溶液中加入1-5%(W/V)的水溶性分散剂溶液,搅匀;再加入5-20%(W/V)无机镍盐溶液,搅拌反应1-5小时;制得悬浮液;其中氨水溶液与水溶性分散剂及无机镍盐溶液的体积比分别为1∶0.5∶1;b.将上述步骤中所制得的悬浮液在105-150℃、0.02-0.3Mpa的条件下于高压釜中反应1-4小时,冷却过滤;将滤饼洗涤后,置于105℃下干燥4小时,再将干燥物在300-800℃下焙烧1-5小时,即得粒径为5-13mm的Nio。
地址 435003湖北省黄石市团城山开发区桂林北路16号