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发明名称 ACIDIC BATH FOR ELECTROLYTICALLY DEPOSITING A COPPER DEPOSIT CONTAINING HALOGENATED OR PSEUDOHALOGENATED MONOMERIC PHENAZINIUM COMPOUNDS
摘要
申请公布号 EP1720842(A1) 申请公布日期 2006.11.15
申请号 EP20040797858 申请日期 2004.11.09
申请人 ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH 发明人 BRUNNER, HEIKO;DAHMS, WOLFGANG;GRIESER, UDO
分类号 C07D241/46;C25D3/38 主分类号 C07D241/46
代理机构 代理人
主权项
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