首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 VACUUM PLASMA PROCESSOR HAVING COIL WITH INTERMEDIATE PORTION COUPLING LOWER MAGNETIC FLUX DENSITY TO PLASMA THAN CENTER AND PERIPHERAL PORTIONS OF THE COIL
摘要
申请公布号 KR100643656(B1) 申请公布日期 2006.11.13
申请号 KR19997004337 申请日期 1999.05.15
申请人 发明人
分类号 H01J37/32 主分类号 H01J37/32
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com