发明名称 含有羧基之感光性树脂、含其之可硷性液显像的光硬化性-热硬化性组成物及其硬化物
摘要 含有羧基之感光性树脂,系使酚醛清漆型酚树脂(a)及环氧伸烷基(b)之反应生成物(c)与含有不饱和基之单羧酸(d)反应,使所得的反应生成物(e)与多硷基酸酐(f)反应而得,含有(A)此含有羧基之感光性树脂,(C)光聚合引发剂,及(D)环氧树脂、或再含有(B)感光性(甲基)丙烯酸酯化合物,宜为再含有(E)有机溶剂及/或(F)硬化触媒之光硬化性热硬化性组成物,在照射紫外线后,以稀硷水溶液显影形成影像,加热处理,或照射活性能量线后之加热处理,或加热处理后的活性能量线照射予以加工硬化,可形成硬化膜,系被使用于制造紫外线硬化型印刷油墨、印刷电路板的各种光阻或层间绝缘材等系有用的。
申请公布号 TWI265943 申请公布日期 2006.11.11
申请号 TW090123117 申请日期 2001.09.19
申请人 太阳油墨制造股份有限公司 发明人 小桧山登;宇敷滋
分类号 C08G8/28(2006.01);C08G59/42(2006.01);C08L61/06(2006.01);C08F299/02(2006.01);G03F7/032(2006.01) 主分类号 C08G8/28(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种含有羧基之感光性树脂,系使酚醛清漆型酚 树脂(a)及环氧伸烷基(b)之反应生成物(c)与含有不 饱和基之单羧酸(d)反应,使所得的反应生成物(e)与 多硷基酸酐(f)反应而得具有30-150mgKOH/g范围内之酸 价的树脂。 2.如申请专利范围第1项之含有羧基之感光性树脂, 其中含有不饱和基之单羧酸(d)系丙烯酸及/或甲基 丙烯酸。 3.如申请专利范围第1项之含有羧基之感光性树脂, 其中多硷基酸酐(f)系脂环式二硷基酸酐。 4.如申请专利范围第1项至第3项中任一项之含有羧 基之感光性树脂,其中环氧伸烷基(b)对酚醛清漆型 酚树脂(a)之加成比例为,相对于一当量酚醛清漆型 酚树脂(a)之酚型羟基为0.3-10.0莫耳。 5.一种可硷性液显像的光硬化性-热硬化性组成物, 其特征在于含有由(A)酚醛清漆型酚树脂(a)及环氧 伸烷基(b)之反应生成物(c)与含有不饱和基之单羧 酸(d)反应,使所得的反应生成物(e)及多硷基酸酐(f) 反应而得具有30-150mgKOH/g范围内之酸价的含有羧基 之感光性树脂、(C)光聚合引发剂及(D)环氧树脂而 成。 6.一种可硷性液显像的光硬化性-热硬化性组成物, 其特征在于含有(A)酚醛清漆型酚树脂(a)及环氧伸 烷基(b)之反应生成物(c)与含有不饱和基之单羧酸( d)反应,使所得的反应生成物(e)及多硷基酸酐(f)反 应而得具有30-150mgKOH/g范围内之酸价的含有羧基之 感光性树脂、(B)感光性(甲基)丙烯酸酯化合物,(C) 光聚合引发剂,及(D)环氧树脂而成。 7.如申请专利范围第5项或第6项之光硬化性-热硬 化性组成物,再含有(E)有机溶剂。 8.如申请专利范围第5项或第6项之光硬化性-热硬 化性组成物,再含有(F)硬化触媒。 9.如申请专利范围第5项之光硬化性-热硬化性组成 物,系含有对前述含有羧基之感光性树脂(A)100质量 分(以固形分计)为0.5-25质量分之比例的光聚合引 发剂(C)及10-70质量分之比例的环氧树脂(D)。 10.如申请专利范围第6项之光硬化性-热硬化性组 成物,系含有对前述含有羧基之感光性树脂(A)100质 量分(以固形分计)为50质量分以下之比例的感光性 (甲基)丙烯酸酯化合物(B)、0.5-25质量分之比例的 光聚合引发剂(C)、及10-70质量分之比例的环氧树 脂(D)。 11.如申请专利范围第8项之光硬化性-热硬化性组 成物,系含有对前述羧基之感光性树脂(A)100质量分 (以固形分计)为0.1-20质量分之比例的硬化触媒(F) 。 12.如申请专利范围第8项之光硬化性-热硬化性组 成物,系对前述羧基之感光性树脂(A)100质量分(以 固形分计)再含有10-300质量分之比例的无机填料。 13.如申请专利范围第8项之光硬化性-热硬化性组 成物,系再含有由着色剂、热聚合抑制剂、增黏剂 、消泡剂、均展剂及矽烷偶合剂而成之群体选出 的至少一种化合物。 14.一种硬化物,系藉由活性能量线照射及加热使申 请专利范围第5项或第6项之光硬化性-热硬化性组 成物硬化而得。 图式简单说明: 第1图为以合成例1而得的含有羧基之感光性树脂 之红外吸收光谱。 第2图为以合成例3而得的含有羧基之感光性树脂 之核磁共振光谱(溶剂CDCl3、基准物质TMS(四甲基矽 烷))。 第3图为以合成例3而得的含有羧基之感光性树脂 之红外吸收光谱。 第4图为以合成例4而得的含有羧基之感光性树脂 之核磁共振光谱(溶剂CDCl3、基准物质TMS(四甲基矽 烷))。 第5图为以合成例4而得的含有羧基之感光性树脂 之红外线吸收光谱。
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